光罩及曝光装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种光罩及曝光装置，光罩包括透明基板及光罩图案，光罩图案设于透明基板上，光罩图案包括图案部、无效部以及接地线；图案部的数量为多个，且相邻的所述图案部具有间隙；无效部设于所述图案部的外围，且与所述图案部间隔设置；无效部设有与外电路电连接的接线端，以便于静电导出；所述接地线将图案部和无效部电性连接，且位于相邻图案部间隙的接地线的宽度为0.2mm～0.4mm。本实用新型的光罩使用时可以将光罩上产生的电荷便可以从无效部导入大地，从而可以避免光罩上的图案被静电击伤；且产品不易残留干膜，得到的产品性能佳，该结构的光罩在电子电路及触控显示领域具有很好的前景。
基本信息
专利标题 ：
光罩及曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020623409.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-22
授权号 ：
CN211826892U
授权日 ：
2020-10-30
发明人 ：
李艳强许建勇
申请人 ：
南昌欧菲显示科技有限公司
申请人地址 ：
江西省南昌市小微工业园办公楼二楼
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
单骁越
优先权 ：
CN202020623409.X
主分类号 ：
G03F1/40
IPC分类号 ：
G03F1/40
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/40
与静电放电有关的特征，例如围绕掩膜基板的抗静电涂料层或导电金属层
法律状态
2020-10-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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