一种光罩抗弯方法及大尺寸平行光曝光机
公开
摘要

本发明公开了一种光罩抗弯方法,通过使掩模板存在内外压差、使掩模版的下板面受大气压的均布压力作用,达到用于抵消因掩模版自重产生的形变目的,因此,杜绝了以往光罩普遍存在的容易破损问题,以及利于保证掩模版与工作平台的理想间隙,控制简便,进而通过实时的间距检测,便于控制负压值的恒定。还公开一种大尺寸平行光曝光机,应用上述光罩抗弯方法,通过本发明的方法,能补偿大尺寸掩模板的重力变形,改善大尺寸掩模垂向的变形分布,进而改善曝光机的工作精度等性能。

基本信息
专利标题 :
一种光罩抗弯方法及大尺寸平行光曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114609872A
申请号 :
CN202210255601.1
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2022-03-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
余燕青周朝平
申请人 :
东莞市友辉光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市万江街道拔蛟窝创业路1号3栋
代理机构 :
东莞市凯粤智华专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
罗丽
优先权 :
CN202210255601.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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