抗反射膜和曝光方法
专利权的终止
摘要
一种抗反射膜，其中，在浸液式平版印刷技术中，即使在曝光光线倾斜进入的地方，也能够在抗蚀剂层和硅衬底之间的界面处获得充分降低的反射率。两层抗反射膜用在通过波长为190－195nm并且数值孔径为1.0或更小的曝光系统的曝光中，并且形成于抗蚀剂层与硅衬底之间。抗反射膜的上层和下层的复折射率N1和N2以及膜厚度分别是由n1－k1i，n2－k2i和d1，d2表示的，并且选择值[n10，k10，d10，n20，k20，d20]的预定组合，n1，k1，d1，n2，k2和d2满足{(n1－n10)/(n1m－n10)}2+{(k1－k10)/(k1m－k10)}2+{(d1－d10)/(d1m－d10
基本信息
专利标题 ：
抗反射膜和曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828419A
申请号 ：
CN200610073937.7
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松泽伸行渡辺阳子布恩塔里卡·桑纳卡特小泽谦山口优子
申请人 ：
索尼株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610073937.7
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2015-04-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101605905022
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2006100739377
申请日 : 20060228
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20140228
号牌文件序号 : 101605905022
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2006100739377
申请日 : 20060228
授权公告日 : 20090805
终止日期 : 20140228
2009-08-05 ：
授权
2006-10-25 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100524022C.PDF
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2、
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