LED光源曝光系统及曝光机
授权
摘要
本实用新型LED光源曝光系统及曝光机包括发出紫外光的UV‑LED光源组件、接收并透射UV‑LED光源组件发出的所述紫外光的复眼组件、接收并反射经过所述复眼组件匀化的紫外光的平面反光装置及接收并反射经过所述平面反光装置匀化准直的紫外光的曲面镜，所述曲面镜将接收的紫外光反射至底片表面以进行图形转移；本实用新型通过在平面反光镜上设置挡片对照射在底片上的光斑进行改变，满足光斑的均匀度，保证底片曝光的一致性。本实用新型同时可以满足不同尺寸的曲面镜，不同的曝光面积，只需要更平面反光装置与复眼组件、曲面镜之间的距离即可实现，也可以通过调整平面反光镜的角度实现，具有高度的灵活性。
基本信息
专利标题 ：
LED光源曝光系统及曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020293645.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-11
授权号 ：
CN211786584U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
周学思
申请人 ：
东莞市中誉光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市常平镇白石岗向北村208号之一
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020293645.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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