平面反射式复眼冷光源曝光系统
避免重复授权放弃专利权
摘要
一种平面反射式复眼冷光源曝光系统,属于光刻技术领域。包括:灯源组、多面镜组装置、反光镜组、曝光装置等,其特征在于,多面镜组装置,包括上层镜座、下层镜座,上层镜座紧密叠合于下层镜座上;上层镜座包括:上盘、上镜片压圈、上盘反光片,上镜片压圈置于上盘、上盘反光片之间,上盘反光片依次紧密环行成圈放列于上盘内;下层镜座结构类似上层镜座。反光镜组包括:小反光镜组、大反光镜组,小反光镜组、大反光镜组平行对峙放置,并与水平夹角为45°。本实用新型提出了多层反射镜的位置排列,大大提高了曝光均匀性,并拓展为更大的曝光面积。
基本信息
专利标题 :
平面反射式复眼冷光源曝光系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820058370.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-14
授权号 :
CN201191356Y
授权日 :
2009-02-04
发明人 :
张岳方
申请人 :
上海学泽光学机械有限公司
申请人地址 :
201108上海市闵行区老沪闵路1901号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200820058370.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G02B17/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-01-12 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101060283947
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008200583700
申请日 : 20080514
授权公告日 : 20090204
放弃生效日 : 20080514
号牌文件序号 : 101060283947
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2008200583700
申请日 : 20080514
授权公告日 : 20090204
放弃生效日 : 20080514
2009-02-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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