本发明提供的曝光系统包括依次设置的灯室结构、耦合镜组、匀光单元、中继镜组和投影物镜；所述曝光系统还包括光阑和/或所述灯室结构具有快门，所述光阑设置于所述快门后方或所述中继镜组的孔径光阑位置；所述灯室结构用于提供光束，所述光束经所述耦合镜组、匀光单元、中继镜组传输至所述投影物镜，通过平滑调整所述光阑的口径或所述快门的口径以衰减所述光束，实现所述曝光系统的能量的连续衰减。进一步的，所述耦合镜组还包括变焦切换组件，通过平滑调整变焦切换组件配合平滑调整所述光阑或者所述快门的孔径，可以实现能量连续衰减的同时，保证所述曝光系统的光学性能不变。