一种用于直写光刻机曝光工序的纠偏对位方法
公开
摘要
本发明涉及直写光刻机领域，公开了一种用于直写光刻机的纠偏对位方法，可以降低贴片精度的方式提高产能，通过介质层对芯片贴片时产生的偏移量进行纠偏，一方面对芯片贴片精度的要求更宽，同时不影响生产良率，确保芯片功能正常，另一方面可解决高精度贴片机产能的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于直写光刻机曝光工序的纠偏对位方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624970A
申请号 ：
CN202210158742.1
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-02-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
程建高唐星高天
申请人 ：
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼
代理机构 ：
合肥天明专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
谢中用
优先权 ：
CN202210158742.1
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
