曝光系统及光刻机
授权
摘要
本实用新型公开了一种曝光系统及光刻机，该曝光系统包括光源、微镜阵列和微透镜阵列，光源用于发出光线；微镜阵列用于接收光线并将光线转换为第一光斑阵列；微透镜阵列和光源分别位于微镜阵列的相对两侧，微透镜阵列用于接收第一光斑阵列并对第一光斑阵列进行聚焦处理形成第二光斑阵列，微透镜阵列将第二光斑阵列投射到基板上。该光刻机包括前述的曝光系统。微镜阵列将所有的光线进行图形化处理并形成第一光斑阵列，微透镜阵列对第一光斑阵列聚焦处理为第二光斑阵列，微透镜阵列中每一微透镜与微镜阵列中每一微镜是一一对应的，相比传统曝光系统，无需考虑微透镜阵列与DMD微镜之间的对位精度问题。
基本信息
专利标题 ：
曝光系统及光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122432964.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-09
授权号 ：
CN216210473U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
陈冠楠梅文辉
申请人 ：
中山新诺科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
黄大伟
优先权 ：
CN202122432964.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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