一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻曝光系统
公开
摘要
本发明公开了一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻机。包括第一棱镜组，以及光焦度为正且焦距分别为F1、F2和F3的第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组；第一棱镜组包括一棱镜；第二透镜组包括第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜；第三透镜组包括焦距为f1第一子透镜组和焦距为f2第二子透镜组；第四透镜组包括第十一透镜；其中，0.2
基本信息
专利标题 ：
一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻曝光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114296327A
申请号 ：
CN202210143074.5
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2022-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谭翠丽李福生韩秋漪蔡志国张善端
申请人 ：
复旦大学;深圳凯世光研股份有限公司
申请人地址 ：
上海市杨浦区邯郸路220号
代理机构 ：
深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
廉红果
优先权 ：
CN202210143074.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B13/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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