光刻机投影物镜偶像差原位检测系统

专利权的终止

摘要

一种光刻机投影物镜偶像差原位检测系统，所述系统包括光源、照明系统、测试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置、数据采集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。所述测试掩模包含一种用于偶像差原位检测的测试标记，由0°、45°、90°、135°四个方向的移相光栅标记组成，光栅的线空比经过优化，达到最大的像差灵敏度。本实用新型的优点是提高了偶像差的检测精度。

基本信息

专利标题：

光刻机投影物镜偶像差原位检测系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820055177.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-01-25

授权号：

CN201166781Y

授权日：

2008-12-17

发明人：

袁琼雁王向朝邱自成

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200820055177.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F1/00