扫描式投影光刻机物镜
专利权的视为放弃
摘要

一种用于扫描式投影光刻机的物镜,由球面全反射镜、球面副反射镜和一球壳形校正透镜组成,该物镜的环带视场狭缝达10mm,适用于3600~4400,还可在2000波段使用。

基本信息
专利标题 :
扫描式投影光刻机物镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN85104369A
申请号 :
CN85104369.0
公开(公告)日 :
1986-12-03
申请日 :
1985-06-08
授权号 :
CN85104369B
授权日 :
1988-06-29
发明人 :
王之江
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海8211信箱
代理机构 :
中国科学院上海专利事务所
代理人 :
张泽纯
优先权 :
CN85104369.0
主分类号 :
G02B17/00
IPC分类号 :
G02B17/00  G02B9/12  G03F7/207  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
法律状态
1994-07-13 :
专利权的视为放弃
1994-07-13 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1994-06-29 :
专利权的终止未缴年费专利权终止
1989-03-08 :
授权
1988-06-29 :
审定
1987-06-24 :
实质审查请求
1986-12-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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