投影物镜系统
公开
摘要
本申请涉及集成电路制造技术领域，尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组，第一透镜组至第六透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正、正。根据本发明的投影物镜系统，能够实现更好的像差控制，进而实现更加完美的图形曝光。
基本信息
专利标题 ：
投影物镜系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594659A
申请号 ：
CN202210244412.4
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谭胜旺吴爽申淙高爱梅
申请人 ：
北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区泰河三街1号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张鹏
优先权 ：
CN202210244412.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B13/14 G02B13/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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