用于显微光刻投影曝光装置的传输光学元件和物镜
专利权的终止
摘要
一种适于在显微光刻投影曝光装置的物镜中使用的传输光学元件(33，37)由多晶材料(100)组成，其中多晶材料(100)具有立方晶体结构的微晶(102)，并且这些微晶(102)的平均微晶尺寸至少是(0.5)微米和至多是(100)微米。
基本信息
专利标题 ：
用于显微光刻投影曝光装置的传输光学元件和物镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101073021A
申请号 ：
CN200580042032.7
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
W·克劳斯M·托特泽克W·米勒－里斯曼
申请人 ：
卡尔蔡司SMT股份公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
曾祥夌
优先权 ：
CN200580042032.7
主分类号 ：
G02B1/02
IPC分类号 ：
G02B1/02 C04B35/443 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/02
由晶体半导体，制成的
法律状态
2018-11-23 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 1/02
申请日 : 20051208
授权公告日 : 20111123
终止日期 : 20171208
申请日 : 20051208
授权公告日 : 20111123
终止日期 : 20171208
2011-11-23 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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