圆柱表面投影式曝光方法
专利申请的视为撤回
摘要
一种可广泛地用来制造光学、电子学和电磁学元件的圆柱表面投影式曝光方法。该方法利用光学成像原理，通过采用锥角为90°的锥形反射面直接将平面掩膜图案投影到圆柱表面上，具有曝光效率高、精度高，适合于工业生产的优点。
基本信息
专利标题 ：
圆柱表面投影式曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1079555A
申请号 ：
CN92103838.0
公开（公告）日 ：
1993-12-15
申请日 ：
1992-05-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方强蒋克俭谭玉山
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
710049陕西省西安市咸宁路28号
代理机构 ：
西安交通大学专利事务所
代理人 ：
贾玉健
优先权 ：
CN92103838.0
主分类号 ：
G03F7/24
IPC分类号 ：
G03F7/24 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
G03F7/24
弯曲的版面
法律状态
1996-12-11 ：
专利申请的视为撤回
1993-12-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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