光学偏振装置和曝光装置
授权
摘要

本实用新型提供一种光学偏振装置以及包括其的曝光装置。所述光学偏振装置包括用于容纳冷却流体的冷却室和偏振组件,所述偏振组件设置在所述冷却室内,其中,所述偏振组件的用于接收待偏振的光的面朝向所述冷却室的第一侧,所述冷却室的所述第一侧设置有开口或者所述冷却室的所述第一侧具有能透射光的第一壁。所述曝光装置包括这样的光学偏振装置及用于发出待偏振的光的光源。利用本实用新型的技术方案,可以在装置工作期间经由冷却流体对来自光源发出的光的热辐射进行吸收和/或从偏振组件吸收热以对偏振组件进行冷却,从而减少或避免偏振组件所包括的偏振元件因经受过多的热而被损坏的可能。

基本信息
专利标题 :
光学偏振装置和曝光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021603723.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-05
授权号 :
CN212647041U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
邓树端何跃龙郭海成
申请人 :
香港科技大学
申请人地址 :
中国香港九龙清水湾
代理机构 :
北京汇知杰知识产权代理有限公司
代理人 :
李洁
优先权 :
CN202021603723.8
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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