光刻机曝光系统

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及半导体制造领域，为一种光刻机曝光系统及其控制方法。它包括LED光源、曝光控制系统、上位机等，系统与上位机连接，上位机输出控制信号至空间图形发生器SLM，空间图形发生器SLM产生曝光图形，LED光源发出的光束经过光路组件A、空间图形发生器SLM、光路组件B、分束器、物镜后照射基片，光电探测器B检测分束器分出的光束信号并将输出送至曝光控制系统，曝光控制系统的输出送至驱动电路，驱动电路的输出送至LED光源以控制其输出光功率和曝光剂量。它克服了现有技术中曝光功率波动对曝光剂量的影响等问题，具有曝光剂量控制精度高、体积小、功耗低、无机械运动部件、反应迅速、寿命长、成本低等优点。

基本信息

专利标题：

光刻机曝光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820032796.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-02-27

授权号：

CN201194068Y

授权日：

2009-02-11

发明人：

胡钰

申请人：

芯硕半导体(中国)有限公司

申请人地址：

230601安徽省合肥市经济技术开发区乡村花园会所二楼

代理机构：

合肥金安专利事务所

代理人：

金惠贞

优先权：

CN200820032796.9

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20