光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置

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摘要

本发明涉及一种光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置，所述离轴照明装置包括光源及依次排列的反射单元、耦合单元、匀光单元及中继镜组，耦合单元至少包括变焦镜组和汇聚镜组，汇聚镜组位于变焦镜组和匀光单元之间，所述方法包括：将光束投射到匀光单元之前，使光瞳位置发生平移，使得平移后光瞳中的光束以非对称的方式入射至匀光单元，但入射的非对称光束经过匀光后形成离轴照明视场。本发明的优点是，在保证光瞳均匀性的前提下，减小能量损失，提高产率，同时简化光路结构，降低成本，节省安装空间。

基本信息

专利标题：

光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112445076A

申请号：

CN201910818265.5

公开（公告）日：

2021-03-05

申请日：

2019-08-30

授权号：

CN112445076B

授权日：

2022-04-22

发明人：

田毅强兰艳平储兆祥

申请人：

上海微电子装备（集团）股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区张东路1525号

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司

代理人：

王宏婧

优先权：

CN201910818265.5

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20