投影曝光装置中的离轴位置对准系统和对准方法

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明公开了一种投影曝光装置中带有离轴位置对准装置的位置对准方法，包括下列步骤：通过掩模版上的通光窗口照明承片台基准标记，由掩模位置对准装置拍摄承片台基准标记，并存储该图像位置信息；由掩模位置对准装置拍摄掩模标记，并存储该图像位置信息；由曝光对象位置对准装置照明承片台基准标记，并拍摄承片台基准标记，然后存储该图像位置信息；由曝光对象位置对准装置拍摄曝光对象标记，并存储该图像位置信息；通过存储的各图像的位置关系，调整掩模、承片台和曝光对象的位置使其对准。本发明实现了掩模和曝光对象之间的高精度位置对准。

基本信息

专利标题：

投影曝光装置中的离轴位置对准系统和对准方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794097A

申请号：

CN200610023156.7

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2006-01-06

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

徐兵闫岩王鹏程

申请人：

上海微电子装备有限公司

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200610023156.7

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/00 H01L21/027