对准系统及对准标记
实质审查的生效
摘要

本发明公开一种对准系统及对准标记,其中该对准系统包含一光源用于发射一光线,一对准标记设置于一基底上,对准标记用于接受第一光线,对准标记包含一第一图案和一第二图案设置于基底上,第一图案包含一第一区域和一第二区域,第二图案包含一第三区域和一第四区域,第一区域和第三区域相对于一对称轴呈对称,第二区域和第四区域相对于对称轴呈对称,第一区域包含有多条第一标记线互相平行,相邻的第一标记线具有第一间距,第二区域包含有多条第二标记线互相平行,相邻的第二标记线具有第二间距,第一间距和第二间距相异,一传感器用于检测由对准标记绕射光线而来的一绕射光。

基本信息
专利标题 :
对准系统及对准标记
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114384769A
申请号 :
CN202011116436.9
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2020-10-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郑谕潍陈建豪
申请人 :
联华电子股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹市
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
陈小雯
优先权 :
CN202011116436.9
主分类号 :
G03F9/00
IPC分类号 :
G03F9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20201019
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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