设计对准标记的方法
实质审查的生效
摘要
一种配置标记的方法，所述标记包括蚀刻到衬底中的沟槽，所述方法包括：a)获得遍及被沉积在具备试用深度的试用沟槽上的试用层的一表面的高度变化的范围与所述试用层的厚度之间的关系；b)确定遍及被沉积在所述标记上的层的所述表面所述的高度变化的范围，允许量测系统确定所述标记的位置；和c)通过基于所述关系、高度变化的所述范围、和被沉积在所述标记上的过程层的厚度确定所述沟槽的深度，配置所述标记。
基本信息
专利标题 ：
设计对准标记的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424124A
申请号 ：
CN202080065572.1
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-08-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马继刚李华
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080065572.1
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 H01L23/544
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20200817
申请日 : 20200817
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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