用于图案层对准的对准标记系统及对准方法
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种用于图案层对准的对准标记系统及图案层对准方法,系统包括:第一图案层上的第一标记和第二图案层上的第二标记;所述第一标记和所述第二标记能够组合为一个对准标记,以在形成第一图案层和第二图案层之上的第三图案层时,所述第一标记和所述第二标记用于将第三图案层的掩模与所述第一图案层和所述第二图案层对准。在不改变光刻机原有扫描算法基础上,由于第一图案层上的第一标记和第二图案层上的第二标记能够组合为一个完整的对准标记,因此通过一次扫描即可得到两个标记组合形成的完整对准标记在晶圆上的位置,并根据扫描得到的位置进行对准,从而缩短了扫描时间,可以提升晶圆生产效率。

基本信息
专利标题 :
用于图案层对准的对准标记系统及对准方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326335A
申请号 :
CN202011061653.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梁时元丁明正贺晓彬刘强刘金彪
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
刘广达
优先权 :
CN202011061653.2
主分类号 :
G03F9/00
IPC分类号 :
G03F9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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