用于投影镜头转换的晶片对准的对准标记机构

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及用于不同放大倍率的投影镜头转换的晶片对准的对准标记结构，其特征在于：包括至少二组不同尺寸的对准标记，分别用于满足不同放大倍率的投影镜头的对准要求；每组对准标记由至少包括相互垂直的二组光栅组成。本实用新型能分别满足不同放大倍率时的光刻对准要求，实现晶片对准的高精度和高效率。小尺寸的对准标记用于较大放大倍率的对准标记图案，可以实现晶片对准的高效率；小放大倍率光刻时通过检测较大尺寸的对准标记，可以提高晶片对准的精度。同时，对准标记的图案具有结构紧凑、工艺适应性好等特点。

基本信息

专利标题：

用于投影镜头转换的晶片对准的对准标记机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720044397.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-09-30

授权号：

CN201138424Y

授权日：

2008-10-22

发明人：

张放心刘文海

申请人：

芯硕半导体(合肥)有限公司

申请人地址：

230601安徽省合肥市经济开发区乡村花园会所二楼

代理机构：

安徽合肥华信知识产权代理有限公司

代理人：

余成俊

优先权：

CN200720044397.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F9/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2017-10-31 ：

专利权的终止

专利权有效期届满IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20070930
授权公告日 : 20081022

2008-10-22 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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