对准标记、标记搜索装置、标记搜索方法和光刻设备

授权

摘要

本发明提供了一种对准标记、标记搜索装置、标记搜索方法和光刻设备。对准标记置于光刻设备的衬底上和/或衬底台的基准板上，对准标记呈L型，包括垂直相交的第一分支和第二分支，第一分支由第一光栅结构并排构成，且第一光栅结构与第一分支的延伸方向具有第一夹角；第二分支由第二光栅结构并排构成，且第二光栅结构与第二分支的延伸方向具有第二夹角，所述第一夹角和所述第二夹角互为余角。所述标记搜索方法结合对准标记的形状，先通过螺旋式移动衬底台获取对准标记的粗搜索位置，再结合得到的粗搜索位置，通过对角式移动衬底台获取对准标记的精搜索位置。粗搜索扫描使得标记搜索方法耗时变短，提升了效率；精搜索提高了标记搜索方法的精准度。

基本信息

专利标题：

对准标记、标记搜索装置、标记搜索方法和光刻设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112882357A

申请号：

CN201911206576.2

公开（公告）日：

2021-06-01

申请日：

2019-11-29

授权号：

CN112882357B

授权日：

2022-04-15

发明人：

吴远焰

申请人：

上海微电子装备（集团）股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区张东路1525号

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司

代理人：

王宏婧

优先权：

CN201911206576.2

主分类号：

G03F9/00

IPC分类号：

G03F9/00