公开了一种光刻方法，包括：形成光刻胶，所述光刻胶包括多个待曝光区；采用一次曝光过程对所述待曝光区进行曝光，所述一次曝光过程包括至少两个不同的光脉冲，所述至少两个不同的光脉冲对所述待曝光区进行曝光的等效景深，大于或等于各所述待曝光区中所述光刻胶之间的最大厚度差；其中，任意两个所述光脉冲的波长或/和能量不同。本发明还提供一种光刻装置，在一次曝光过程中至少使用两个不同的光脉冲，通过调节每个光脉冲的波长以及能量，使得对所述待曝光区进行曝光的等效景深大于或者等于各所述待曝光区中的光刻胶之间的最大厚度差，优化光刻胶的形貌以及增大光刻工艺窗口，提高产品的良率以及可靠性。