光刻胶组合物
授权
摘要
本发明的光刻胶包含添加的酸反应组分、以及一种或多种树脂和光活性组分。本发明优选的光刻胶可在微电子晶片之类的基材上提供所需的等密度偏置值。本发明特别优选的光刻胶是化学增强的正作用抗蚀剂，它除了酸反应组分以外，还包含酯基溶剂，例如乳酸乙酯或丙二醇甲醚乙酸酯。
基本信息
专利标题 ：
光刻胶组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1811595A
申请号 ：
CN200510128887.3
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2005-12-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·M·明茨M·J·考夫曼N·S·杰西曼
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陈文青
优先权 ：
CN200510128887.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2009-08-26 ：
授权
2006-09-27 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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