一种正型光刻胶组合物及制备方法和光刻胶图形形成方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光刻胶技术领域,更具体地,本发明涉及一种正型光刻胶组合物及制备方法和光刻胶图形形成方法。本发明提供一种未曝光区膜厚损失小、垂直程度高的矩形形貌,还同时兼具高灵敏度、高对比度和高分辨率的正性抗蚀剂组合物;通过添加少量含有特定取代酚单体的改性酚醛清漆树脂B,和常规酚醛树脂A共同作用,得到的正型光刻胶组合物在高灵敏度的情况下仍可以明显改善光刻胶垂直形貌,使得光刻胶形貌从70°的正梯形,变为80°以上的矩形形貌,使得光刻胶能满足细线宽加工的需求,且发明人发现,加入全氟烷基丙烯酸酯E作为光刻胶添加物可以明显改善光刻胶的未曝光膜厚损失,显著提高了光刻胶的对比度。
基本信息
专利标题 :
一种正型光刻胶组合物及制备方法和光刻胶图形形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326300A
申请号 :
CN202011065796.0
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
章韵赵家祺
申请人 :
上海飞凯材料科技股份有限公司
申请人地址 :
上海市宝山区潘泾路2999号
代理机构 :
上海微策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
史玉婷
优先权 :
CN202011065796.0
主分类号 :
G03F7/004
IPC分类号 :
G03F7/004 G03F7/039 G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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