一种倒梯形光刻胶侧壁形貌的制备方法及光刻胶
公开
摘要
本发明提供了一种倒梯形光刻胶侧壁形貌的制备方法及光刻胶，其包括：预处理晶圆和中心定位；在所得晶圆上涂光刻胶和前烘；再次涂光刻胶和前烘；曝光、显影和坚膜；本发明提供的技术方案有效提高了lift‑off工艺掩膜层侧壁形貌的可控性，实现了图形的精准转移，且操作方法简单。
基本信息
专利标题 ：
一种倒梯形光刻胶侧壁形貌的制备方法及光刻胶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114518699A
申请号 ：
CN202011297090.7
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2020-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
葛欢田亮姜春艳吴斌齐向
申请人 ：
全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网山东省电力公司泰安供电公司
申请人地址 ：
北京市昌平区未来科技城滨河大道18号
代理机构 ：
北京安博达知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐国文
优先权 ：
CN202011297090.7
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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