一种光刻胶形貌控制设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶形貌控制设备,包括：机架，与机架上端固定连接的加热模块，与加热模块电联的电控模块，与所述热模块对应的支撑层，所述支撑层与机架固定连接，其中，所述支撑层上设有冷板模块。与现有技术相比，本实用新型有效实现光刻胶表面与底面温度差，使得显影后胶条形成明显的倒梯形的倒角，以保障后续实现侧壁无金属沉积，保证剥离后基片表面的洁净度，实现高分辨率、高均匀性、低成本、高质量的Lift‑Off工艺，降低基片图形制作成本，提高图形的分辨率和图形质量。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶形貌控制设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921990950.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-18
授权号 ：
CN210954609U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
施小赟杜迅
申请人 ：
常州微泰格电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进区雪堰镇曹家村工业大道13号
代理机构 ：
常州唯思百得知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙丽
优先权 ：
CN201921990950.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05B3/02 H05B3/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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