一种光刻胶层的形貌检测方法及系统
授权
摘要
本发明提供了一种光刻胶层的形貌检测方法及系统，包括：提供待测样品，所述待测样品包括衬底基板及位于所述衬底基板一侧上的光刻胶层，所述光刻胶层包括待检测区；对所述光刻胶层的待检测区进行冷脆处理；沿裂片线对所述待测样品进行裂片，裸露所述光刻胶层在所述待测区的截面，其中，所述待检测区位于所述裂片线的延伸路径上；对所述光刻胶层在所述待测区的截面进行形貌检测。由上述内容可知，本发明提供的技术方案，在对待测样品进行裂片前，对光刻胶层的待检测区进行了冷脆处理，进而能够降低光刻胶层的待检测区处的截面在裂片时发生形变的情况，保证对光刻胶层在待检测区的截面处形貌检测的准确性高。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶层的形貌检测方法及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112925172A
申请号 ：
CN202110083384.8
公开（公告）日 ：
2021-06-08
申请日 ：
2021-01-21
授权号 ：
CN112925172B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
陈庆煌柯思羽武松刘志成
申请人 ：
泉芯集成电路制造（济南）有限公司
申请人地址 ：
山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
骆宗力
优先权 ：
CN202110083384.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-06-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210121
申请日 : 20210121
2021-06-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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