本公开提供了一种光刻胶涂覆方法及系统。该光刻胶涂覆方法包括但不限于如下步骤：首先放置晶圆，先控制倾斜至预设角度的晶圆以预设速度持续旋转。然后再向倾斜的晶圆表面喷涂光刻胶，以使光刻胶均匀地分布。该光刻胶涂覆系统可包括但不限于旋转驱动装置、喷涂装置、角度调节装置、高度调节装置以及信息采集装置等。本公开创新地采用了向倾斜设置的晶圆表面涂覆光刻胶的方案，借助重力的作用促使光刻胶向晶圆边缘移动，有助于在提高光刻胶涂覆均匀性的同时明显地减少光刻胶的使用量。本公开还通过调节喷嘴高度的方式提高光刻胶涂覆的面积和均匀性，并通过调节晶圆倾斜角度的方式进一步减少光刻胶使用量和提高涂覆效果。