光刻胶涂覆装置及其方法

专利权的终止

摘要

本发明公开了一种光刻胶喷涂装置，所述装置包括喷涂光刻胶的喷嘴；放置至少一个光刻胶喷嘴的喷嘴卡槽；抓取光刻胶喷嘴并可带动喷嘴移动和升降的喷嘴抓取臂；承载需要喷涂光刻胶的晶片的晶片承载台；带动晶片承载台进行旋转的旋转机构；置于喷嘴卡槽、校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度的伪喷嘴；控制喷嘴抓取臂的移动并记忆喷嘴抓取臂抓取喷嘴的位置的控制系统；以及为所述喷嘴供应光刻胶的光刻胶供应系统。本发明还相应提供了一种喷涂光刻胶的方法，包括喷嘴抓取臂抓取伪喷嘴校准喷嘴与晶片表面的同心度和高度；喷嘴抓取臂抓取喷嘴移动到需要喷涂光刻胶的晶片表面；向晶片表面喷涂光刻胶。

基本信息

专利标题：

光刻胶涂覆装置及其方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1987652A

申请号：

CN200510111675.4

公开（公告）日：

2007-06-27

申请日：

2005-12-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

陈林炯胡晓明张峻铭

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

优先权：

CN200510111675.4

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 B05C11/08

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/16

涂层处理及其设备

法律状态

2019-12-06 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20091118
终止日期 : 20181219

2011-12-21 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
登记生效日 : 20111109
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101239706574
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2005101116754
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无

2009-11-18 ：

授权

2007-08-22 ：

实质审查的生效

2007-06-27 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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