一种光刻胶涂覆机构

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摘要

一种光刻胶涂覆机构，涉及半导体制造领域，包括底板，底板上固定连接有主气管，底板上方还设有转盘，转盘套设在主气管上并与主气管转动连接，转盘的背面均布设有四个扇形板，相邻两扇形板之间形成滑槽，每个扇形板上方均设有与转盘边缘固定连接的弧形板，转盘内还设有转轴，转轴上固定连接有拨盘和连杆，连杆的端部还固定设有拨块，拨盘与弧形板滑动配合，拨块与滑槽滑动配合，转盘上均布固定设有四个托盘，主气管上端固定连接有安装块，安装块的底面固定连接有雾化喷头。本实用新型省去了软烘过程，且雾化光刻胶液滴能均匀地喷洒到晶圆表面，不存在边缘光刻胶堆积的情况，简化晶圆制作工艺流程。

基本信息

专利标题：

一种光刻胶涂覆机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921325350.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-15

授权号：

CN210514932U

授权日：

2020-05-12

发明人：

李晓杰原子健常小明

申请人：

济源艾探电子科技有限公司

申请人地址：

河南省济源市高新技术产业集聚区内

代理机构：

北京天盾知识产权代理有限公司

代理人：

卓邦荣

优先权：

CN201921325350.X

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16