一种光刻胶涂覆承片装置
授权
摘要

本实用新型一种光刻胶涂覆承片装置属于微纳光机电元件生产设备领域;该光刻胶涂覆承片装置包括同轴设置的承片托盘、外部套管、内部套管、移动套管、弹簧和底座;所述承片托盘的外缘具有圆角过渡,承片托盘的上表面有开口和通孔,所述开口的尺寸与待涂胶基片相同,所述通孔用于安装内部套管和移动套管;承片托盘与外部套管刚性连接;所述弹簧缠绕于所述内部套管,且位于移动套管与所述底座之间;所述外部套管、内部套管以及可移动套管通过固定销钉保持固定状态;本申请光刻胶涂覆承片装置既可以保证光刻胶涂覆厚度的均一性,又可以避免由于基片形状及气流原因造成顶角厚胶的现象,还具有方便卸片的技术优势。

基本信息
专利标题 :
一种光刻胶涂覆承片装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920861750.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-10
授权号 :
CN209674179U
授权日 :
2019-11-22
发明人 :
金光国徐松
申请人 :
苏州麦田光电技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区宏业路111号
代理机构 :
哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李思奇
优先权 :
CN201920861750.6
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2019-11-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN209674179U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332