光刻胶输送系统
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种光刻胶输送系统,该光刻胶输送系统包括光刻胶供给瓶、缓冲罐和排液胶泵,其中,缓冲罐的顶部设置有进液口和排液口,进液口与光刻胶供给瓶通过进液管路连通,以使光刻胶流入;缓冲罐的底部设置有光刻胶出口,光刻胶出口用于与光刻胶喷嘴连通,以使光刻胶流入光刻胶喷嘴中;排液胶泵与排液口通过排液管路连通,以抽取缓冲罐中的空气。本发明中排液胶泵通过抽取的方式促使光刻胶进入缓冲罐,降低或避免了光刻胶中产生气泡的可能性;而且排液口设置在缓冲罐的顶部,能够将缓冲罐中的空气以及含有气泡的光刻胶抽取出去,不仅避免了浪费大量光刻胶,而且避免了后续光刻胶涂布时由于气泡造成的晶圆缺陷。
基本信息
专利标题 :
光刻胶输送系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114345644A
申请号 :
CN202011091893.7
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2020-10-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金在植张成根林锺吉贺晓彬丁明正杨涛李俊峰王文武
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
何家鹏
优先权 :
CN202011091893.7
主分类号 :
B05C11/10
IPC分类号 :
B05C11/10
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C11/00
在B05C1/00至B05C9/00中没有专门列入的部件、零件及附件
B05C11/10
液体或其他流体的存贮、供给或控制,过量液体或其他流体的回收
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B05C 11/10
申请日 : 20201013
申请日 : 20201013
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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