本发明提供一种光刻胶气泡消除装置及光刻系统，装置包括管路、缓冲瓶和超声波发生器；超声波发生器具有一腔体，所述腔体具有进液口和出液口，用于供所述超纯水自所述进液口进入所述腔体，并自所述出液口排出所述腔体；管路用于输送光刻胶；缓冲瓶设于所述管路上且与所述管路连通，并用于容纳所述光刻胶，所述缓冲瓶的至少一部分位于所述腔体的范围之内。如上配置，可通过超声波发生器和超纯水的配合对缓冲瓶中的光刻胶内的气泡进行超声波脱气处理，相较于现有技术，本发明消除光刻胶内的细微气泡的效果显著，可以防止光刻胶在涂胶显影过程中因内部细微的气泡导致大量光刻缺陷。