聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光刻材料技术领域，特别是涉及聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺。本发明通过采用式I所示的聚合物作为光刻胶原料，并限定其重均分子量在一定范围内，相较于传统的酚醛树脂等树脂原料，其具有更好的耐热性和稳定性，制得的光刻胶层能适用于更苛刻的器件加工条件；其在碱性显影液中的溶解度适中，在光刻胶常用溶剂中溶解度较好，能很好地平衡溶解度的问题，较传统技术能成像更好、更精细，且生产效率更高。
基本信息
专利标题 ：
聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114539518A
申请号 ：
CN202210162573.9
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-02-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王晓伟
申请人 ：
苏州理硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城12幢401-88
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
向薇
优先权 ：
CN202210162573.9
主分类号 ：
C08G69/44
IPC分类号 ：
C08G69/44 G03F7/027 G03F7/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G69/00
由在高分子主链中形成羧酸酰胺键合反应得到的高分子化合物
C08G69/44
聚酯酰胺
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 69/44
申请日 : 20220222
申请日 : 20220222
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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