光刻胶烘干装置
授权
摘要
本实用新型提供一种光刻胶烘干装置，用于烘干涂覆在晶圆上的光刻胶，所述光刻胶烘干装置包括：至少一上烘干板、至少一下烘干板及一控制装置；所述上烘干板与所述下烘干板间隔设置，所述晶圆用于设置在所述上烘干板与下烘干板之间；所述控制装置分别与所述上烘干板及所述下烘干板连接，并控制所述上烘干板及所述下烘干板升温，以烘干所述光刻胶。本实用新型的优点在于，晶圆应力释放均匀，避免烘干后的光刻胶翘曲，甚至开裂；加速了自光刻胶中挥发出的溶剂的流动速度，保证了后续制程中形成的晶圆的关键尺寸相对均匀；大大缩短了单个晶圆的加热时间，提高了生产效率，节省了时间成本。
基本信息
专利标题 ：
光刻胶烘干装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921844380.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-30
授权号 ：
CN210573184U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
袁元袁文旭程潇
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
董琳
优先权 ：
CN201921844380.1
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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