光刻胶供应装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本公开涉及一种光刻胶供应装置,包括用于存储光刻胶的供应容器(1),所述供应容器(1)连接有用于将光刻胶导入涂胶槽的供胶管路(3),所述供应容器(1)还连接有用于通入供压气体的进气管路(2),以使所述供压气体能够将所述光刻胶压出所述供应容器(1)。通过上述技术方案,通过向供应容器(1)中通入供压气体以将光刻胶压出,取代了利用光阻泵通过抽取的方式导出光刻胶,能够避免当光刻胶粘度较大时,因受限于光阻泵最大抽吸力不足所导致的光刻胶供应不稳定的问题,提高了涂布的质量。
基本信息
专利标题 :
光刻胶供应装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921418292.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-28
授权号 :
CN211207071U
授权日 :
2020-08-07
发明人 :
杨伟靖
申请人 :
深圳比亚迪微电子有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921418292.5
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-03-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/16
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳比亚迪微电子有限公司
变更后 : 比亚迪半导体有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更后 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳比亚迪微电子有限公司
变更后 : 比亚迪半导体有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更后 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
2021-03-12 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/16
变更事项 : 专利权人
变更前 : 比亚迪半导体有限公司
变更后 : 比亚迪半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更后 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 比亚迪半导体有限公司
变更后 : 比亚迪半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
变更后 : 518119 广东省深圳市大鹏新区葵涌街道延安路1号
2020-08-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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