一种光刻胶涂布装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶涂布装置。所述光刻胶涂布装置包括：转轴、涂布平台和转筒，所述涂布平台水平设置并能够绕所述转轴转动，以带动放置在所述涂布平台上的玻璃基板旋转，所述转筒包括从内朝外向下倾斜设置的筒底、设置在所述筒底外沿的筒壁以及设置在所述筒底和所述筒壁交汇处的排放管，所述筒底的内沿与所述涂布平台的外沿连接，所述排放管上设置有阀门。所述光刻胶涂布装置能有效回收多余的光刻胶，大大节约了成本。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶涂布装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921952684.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN210666332U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
李永斌
申请人 ：
甘肃华隆芯材料科技有限公司
申请人地址 ：
甘肃省白银市白银区兰包路333号(08)5幢1-01(孵化器基地)科研一号楼306室
代理机构 ：
成都弘毅天承知识产权代理有限公司
代理人 ：
张串串
优先权 ：
CN201921952684.X
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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