一种均匀布料光刻胶涂布吸头
授权
摘要
本实用新型公开了一种均匀布料光刻胶涂布吸头，涉及光刻胶涂布技术领域，解决了目前涂布吸头与晶圆定位不精准，以使在甩胶过程中各个位置离心力不均匀而导致光刻胶在晶圆的端面涂布不均匀，产生边缘锯齿现象的问题，其技术方案要点是：包括吸头主体，所述吸头主体包括由下至上依次设置的底盘和托盘，所述底盘和托盘均为圆盘状，且底盘和托盘的圆心重合；所述托盘的内部设置有安装腔，且托盘的上端面设置有开口；所述安装腔内设置有定位机构；所述底盘和托盘贯穿设置有通孔；达到降低操作难度和提高工作效率的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种均匀布料光刻胶涂布吸头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022445170.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
CN213023935U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
杨江兵王晓伟
申请人 ：
苏州理硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城10幢102室
代理机构 ：
成都明涛智创专利代理有限公司
代理人 ：
毕雅凤
优先权 ：
CN202022445170.4
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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