一种边缘光刻胶去除装置及光刻胶涂布装置
授权
摘要
本实用新型提供一种边缘光刻胶去除装置及光刻胶涂布装置，该边缘光刻胶去除装置包括溶剂输送管道、溶剂喷嘴及溶剂遮挡板，其中，溶剂喷嘴连接于溶剂输送管道一端，用于向晶圆背面边缘喷洒溶剂，溶剂遮挡板连接于溶剂输送管道，从晶圆背面绕到晶圆上方，并从晶圆上方往晶圆正面的边缘延伸，但不与晶圆表面接触。本实用新型的边缘光刻胶去除装置及光刻胶涂布装置采用了溶剂遮挡板，当溶剂喷嘴所喷溶剂到达晶圆上方并下落的时候，溶剂可以顺着溶剂遮挡板的边缘流下来，大大降低了晶圆正面光刻胶被污染的可能性，从而避免晶圆表面的缺陷密度增加。此外，溶剂遮挡板还能够在晶圆旋转涂胶时减少光刻胶溢出至晶圆边缘与背面的概率。
基本信息
专利标题 ：
一种边缘光刻胶去除装置及光刻胶涂布装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920665312.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-09
授权号 ：
CN210109551U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
薛征叶日铨黄志凯李俊杰
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘星
优先权 ：
CN201920665312.2
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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