一种光刻胶去除机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶去除机构，包括传送部，所述传送部包括两侧平行布置的带式传输机，沿带式传输机的进给方向依次设置第一处理部和第二处理部，所述第一处理部和第二处理部均包括能够上下移动的上盖体和下盖体，所述上盖体和下盖体关于带式传输机的工作面对称布置，本光刻胶去除机构通过第一处理部喷淋去离子水，对光刻胶表层的硬壳进行软化，随后在微波发生装置的作用下，利用等离子体对光刻胶进行轰击，以去除软化后的硬壳层和部分光刻胶，随后在第二处理部内部喷淋清洗液，对剩余的光刻胶进行清洗，由于硬壳被软化，其去除所需的等离子体轰击能量下降，降低等离子体对衬底的损伤，且减少清洗液清洗所需时间。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶去除机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921325353.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-15
授权号 ：
CN211123623U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
原子健李晓杰
申请人 ：
济源艾探电子科技有限公司
申请人地址 ：
河南省焦作市济源市高新技术产业集聚区内
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
卓邦荣
优先权 ：
CN201921325353.3
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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