一种晶圆生产加工专用光刻胶去除装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶圆生产加工专用光刻胶去除装置，包括机体和防护机构，所述机体的前表面上部活动设置有密封门，且密封门上安装有固定锁，所述机体的前表面位于密封门的一侧安装有面板，所述防护机构包括防护板、外框、卡槽、伸出块、卡块、凹槽、弹簧，所述外框固定于机体的前表面，并位于面板的外侧；本实用新型的有益效果是：通过设计的防护机构，有助于起到对面板的防护，解决了传统中的面板暴露在外，缺少防护的问题；通过设计的防潮机构，实现了防潮剂包的快速安装，利用防潮剂包吸潮的效果，增加了光刻胶去除装置内的防潮效果，减少了光刻胶去除装置内部元器件的受潮，延长了光刻胶去除装置内部元器件的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆生产加工专用光刻胶去除装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022527144.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-05
授权号 ：
CN213545036U
授权日 ：
2021-06-25
发明人 ：
李传银
申请人 ：
苏州市永辰芯微电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区胥口镇吴中大道5068号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022527144.6
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2021-06-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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