一种快速去除光刻胶的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种快速去除光刻胶的装置，包括底座，所述底座顶部的左侧固定连接有支撑杆，所述支撑杆的右侧固定连接有横板，所述横板的底部固定连接有伸缩气缸，所述伸缩气缸的底部固定连接有光刻机，所述底座顶部的中心处固定连接有传送装置。本实用新型通过驱动电机、转盘、除尘装置和清理装置的配合，通过驱动电机带动转盘旋转，便于对生产线上的半导体晶圆表面的光刻胶进行清除，不影响光刻机正常运行，提高工作效率，除尘装置将半导体晶圆表面的光刻胶进行吸附，避免二次污染，提高清洁效果，保证产品的生产质量，从而达到工作效率高的效果，解决了现有工作效率低的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种快速去除光刻胶的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922122881.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-02
授权号 ：
CN211577663U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
聂秀金周敏君
申请人 ：
沃威沃水技术（中国）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区碧波路572弄115号8幢
代理机构 ：
北京中索知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘翔
优先权 ：
CN201922122881.5
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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