涂敷光刻胶的方法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
光刻工艺，包括在衬底上旋涂光刻胶并将掩膜图形转移到光刻胶上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当光刻胶显影图形因涂敷光刻胶工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符。
基本信息
专利标题 ：
涂敷光刻胶的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86103644A
申请号 ：
CN86103644.1
公开（公告）日 ：
1987-04-29
申请日 ：
1986-06-11
授权号 ：
CN86103644B
授权日 ：
1988-11-23
发明人 ：
伊藤铁男田沼正之込义之门田和也小林一成
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
李勇
优先权 ：
CN86103644.1
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H01L21/312
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2000-08-09 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1989-10-18 ：
授权
1988-11-23 ：
审定
1987-04-29 ：
公开
1987-02-18 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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