涂敷、显影装置和涂敷、显影方法
授权
摘要
涂敷·显影装置具备：处理块，在晶片上形成抗蚀剂膜后将其运送至曝光装置，并对曝光后的基板进行显影处理；和接口运送机构，设在处理块和曝光装置之间，上述处理块具有涂敷抗蚀剂的涂敷膜形成用单位块、和进行显影处理的显影处理用单位块，并另外设置有涂敷膜形成用单位块运送机构和显影处理用单位块运送机构。另外，调整把曝光后的基板从接口块运送机构交接至交接台后，由显影处理用单位块运送机构接取该基板的时刻，以使从该基板曝光到运入加热单元的时间为预先设定的时间。
基本信息
专利标题 ：
涂敷、显影装置和涂敷、显影方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1831649A
申请号 ：
CN200610007088.5
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2006-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林田安原圭孝
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
温大鹏
优先权 ：
CN200610007088.5
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/20 G03F7/32 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2009-12-23 ：
授权
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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