涂敷、显影装置
授权
摘要
本发明提供一种能够按所希望的定时进行曝光装置维护的涂敷、显影装置。该涂敷、显影装置在将搬入输送机模块的基板搬运到处理模块并形成涂敷膜之后，通过接口模块搬运到曝光装置，通过上述接口模块返回来的曝光后的基板在上述处理模块中进行显影处理并搬运到输送机模块，其中设置搬运装置，该搬运装置相对于上述涂敷膜形成用模块及显影用模块层叠并且在输送机模块和接口模块之间将形成涂敷膜的基板从输送机模块一侧直达搬运到接口模块一侧。通过这种结构，即使涂敷膜形成用模块和显影用模块处于维护中，由于可以将检查用基板搬运到曝光装置中，所以也能够检查曝光装置的状态。
基本信息
专利标题 ：
涂敷、显影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1854898A
申请号 ：
CN200610089867.4
公开（公告）日 ：
2006-11-01
申请日 ：
2006-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松冈伸明林伸一林田安
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
浦柏明
优先权 ：
CN200610089867.4
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/30
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2010-06-09 ：
授权
2006-12-27 ：
实质审查的生效
2006-11-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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