涂敷、显影装置

避免重复授权放弃专利权

摘要

本实用新型提供一种能够以高生产率进行处理且占地面积较小的涂敷、显影装置，其具备：处理模块，其设置有包括曝光前处理组件的处理组件；和中继模块，其设置有曝光后处理组件和第1送入送出组件，在各层设置有所述处理组件，在设置有所述曝光前处理组件的层的所述中继模块侧端，设置有在将基板在两模块之间交接之际载置该基板的交接部，所述中继模块在沿着所述宽度方向与所述处理模块的所述交接部相邻的区域设置有第2送入送出组件，在中继侧输送区域设置有所述第1送入送出组件，在所述深度方向上，在将所述第2送入送出组件夹在中间地与所述曝光后处理组件相对的区域，设置有使基板中继的中继机构。

基本信息

专利标题：

涂敷、显影装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022137639.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-25

授权号：

CN212694244U

授权日：

2021-03-12

发明人：

渡边刚史土山正志佐藤宽起滨田一平

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘新宇

优先权：

CN202022137639.8

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/20 G03F7/38 H01L21/677