一种光刻胶软烘干机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻胶软烘干机构，包括进给部、干燥部和温变部，所述进给部包括传输机，所述传输机的传输带表面沿进给方向均匀布置安装孔，所述传输机的传输带上方设置干燥部，所述干燥部包括下端开口的壳体，所述传输带穿过壳体内部，且壳体的两侧分别设置通气孔，两侧的通气孔之间设置连通的风管，所述风管处于壳体外部，且风管内部串接干燥盒，本光刻胶软烘干机构采用循环的传输机进行晶片的取放，降低对加工区域温度的影响，同时，采用热板加热的方式，避免光刻胶表层首先凝固造成的内部挥发不完全的问题，同时采用可升降的热板结构，实现热板与晶片距离可调，实现接近式烘焙，避免晶片爆裂。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻胶软烘干机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921326196.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-15
授权号 ：
CN210497110U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
原子健李晓杰
申请人 ：
济源艾探电子科技有限公司
申请人地址 ：
河南省济源市高新技术产业集聚区内
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
卓邦荣
优先权 ：
CN201921326196.8
主分类号 ：
B05D3/02
IPC分类号 ：
B05D3/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理；已有涂层的后处理，例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/02
烘烤
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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