一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备，包括：一传送机构；多个夹具，沿所述传送机构的移动方向间隔设置在所述传送机构上；沿所述传送机构的移动方向设置有滴胶区、烘干区；一滴胶机构，位于所述滴胶区，布置于所述夹具的上方；一烘干机构，位于所述烘干区，布置于所述夹具的上方，沿所述传送机构的移动方向，所述烘干机构位于所述滴胶机构的下游侧。利用多个夹具夹持固定多个晶圆，利用传送机构带动夹具连续传送。利用滴胶机构向晶圆上滴加光刻胶。在匀胶后，利用烘干机构进行烘干处理。本实施例集合滴胶、烘干一体化处理，可以多个晶圆连续处理，效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种用于晶圆光刻胶烘干处理的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114460811A
申请号 ：
CN202210089724.2
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
廖世容况诗吟谢建平
申请人 ：
浙江光特科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市越城区群贤路与中兴大道东南角一楼107室
代理机构 ：
南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
何薇
优先权 ：
CN202210089724.2
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20220125
申请日 : 20220125
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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